वैक्यूम वाष्प जमाव भट्ठी
वैक्यूम वाष्प अवशेष भट्ठी सीवीडी भट्ठी, रासायनिक वाष्प अवशेष, वैक्यूम भट्ठी
मुख्य विशेषताएं:
वाष्प जमाव भट्ठी का प्रयोग: इस रासायनिक वाष्प जमाव ग्राफिटिकेशन एकीकृत भट्ठी का उपयोग संयुक्त सामग्री के रासायनिक वाष्प जमाव के लिए किया जा सकता है UND ड्रोकार्बन गैस (जैसे C3H8),जैसे सीवीडी, सी/सी कम्पोजिट सामग्री का सीवीआई उपचार, सीआईसी कम्पोजिट सामग्री, ग्राफाइट भागों की सतह कार्बोनाइजेशन उपचार और ग्राफीन का उत्पादन।
वाष्प जमाव भट्ठी का उद्देश्य:
इस रासायनिक वाष्प जमाव graphitization एकीकृत भट्ठी कार्बन स्रोत के रूप में UND drocarbon गैस (जैसे C3H8, आदि) के साथ समग्र सामग्री के रासायनिक वाष्प जमाव के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है,जैसे सीवीडीसी/सी कम्पोजिट सामग्री का सीवीआई उपचार, सीआईसी कम्पोजिट सामग्री, ग्राफाइट भागों की सतह कार्बोनाइजेशन उपचार और ग्राफीन का उत्पादन।
वाष्प जमाव भट्ठी की विशेषताएं:
बहुआयामी उच्च तापमान डिजाइन एक ही समय में रासायनिक वाष्प जमाव और graphitization उपचार प्राप्त कर सकते हैं।
ऑपरेटिंग तापमान 2600 तक है और यह लंबे समय तक स्थिर और विश्वसनीय रूप से काम कर सकता है।
तापमान माप स्वचालित रूपांतरण प्रणाली थर्मोकपल्स और अवरक्त थर्मामीटर के साथ संयुक्त पूरे तापमान रेंज के प्रदर्शन और नियंत्रण को महसूस कर सकता है।
प्रेरण हीटिंग आवृत्ति रूपांतरण नियंत्रण प्रणाली आईजीबीटी का उपयोग मुख्य शक्ति उपकरण के रूप में उपकरण ऊर्जा-बचत और बिजली की बचत करता है,छोटे हार्मोनिक घटकों के साथ और बाहरी उपकरण के लिए कोई हस्तक्षेप नहीं.
इनपुट और आउटपुट गैस का सटीक प्रवाह प्रदर्शन और नियंत्रण उत्पाद की स्थिरता सुनिश्चित करता है।
विशेष संरचना जमा कक्ष का उपयोग किया जाता है, जिसमें अच्छी सीलिंग प्रभाव और मजबूत प्रदूषण विरोधी क्षमता होती है
बहु-चैनल जमाव गैस पथ का उपयोग किया जाता है, प्रवाह क्षेत्र समान है, जमाव मृत कोने नहीं हैं, और जमाव प्रभाव अच्छा है;
विशेष निस्पंदन प्रणाली कार्बन जमाव प्रक्रिया के दौरान उत्पन्न टार, ठोस धूल, कार्बनिक गैस आदि को प्रभावी ढंग से इलाज कर सकती है।
वाष्प जमाव भट्ठी के तकनीकी मापदंडः
